气态分子污染物(AMC)已经成为影响半导体产品质量的重要因素,主要表现为表面分子污染,这是由气态分子和特定表面作用而形成非常薄的化学膜,化学膜通常改变产品表面的物理、电子、化学和光学特性而导致质量缺陷,造成产品良品率下降。

AMC种类复杂,根据SEMI发布的标准中将AMC分为四类:1.酸性分子污染物:如HF、SO2、CL2等;2.碱性分子污染物:如NH3等;3.有机化合物:如SiH4,碳氢化合物等;4.掺杂物:如磷(P)、硼(B)等。

AMC可能来源于无尘室外的汽车排气、大气臭氧、工厂排放等,或是洁净室内的化学溶剂挥发、蚀刻酸气、塑料制品溢散等,由于来源非常广泛,污染物种类繁多,因此如何进行有效防控已经成为行业的一大难题。

考虑到内部和外部AMC污染源的浓度,半导体行业控制AMC需要从多方面来进行。首先对生产环境进行评估,确定环境中的气态污染物种类和污染程度,然后定制污染控制方案,在新风处理机组(MAU)和风机过滤单元(FFU)上安装化学过滤器,达到多重去除AMC的效果,为了实时掌握AMC含量浓度,还需搭建AMC化学污染物在线监测系统,进行实时监测。

AMC化学污染物在线监测系统
半导体行业AMC控制是一项重要且复杂的任务,除了以上的控制措施,还应加强生产设备的维护和清洁,定期检查和更换可能引起AMC污染的部件,提高对AMC控制的认识、了解AMC的影响,知道如何正确操作和维护设备以减少AMC污染的可能性。此外,建立规范的操作流程和标准,确保每个生产步骤都符合AMC控制的要求,来有效降低AMC的浓度,保证半导体制造过程的稳定性和产品质量的可靠性。